一种掩膜板和阵列基板

摘要：

本实用新型公开了一种掩膜板和阵列基板，该掩膜板包括衬底，在衬底上设置有开口区域和遮挡区域，开口区域由多个基础图形组合而成，开口区域与遮挡区域的面积比为α，其中1/3≤α<1。该方案中，在有机绝缘膜的生产过程中，遮挡区域的遮挡作用能够减弱参与光刻的光强，而光线透过开口区域后的衍射又能使得正对遮挡区域的有机膜层被光照射到，通过调整开口区域的面积调整透过掩膜板的光强，控制光强打散并减弱后的强度实现光刻过程中对有机绝缘膜的挖槽的深度的控制，能够有效降低掩膜板的成本，并获得更加平整的挖槽表面。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201621156609.9

申请日期：2016-10-31

公开/公告号：CN206178339U

公开/公告日：2017-05-17

主分类号：G03F1/60(2012.01)I

申请/专利权人:厦门天马微电子有限公司%天马微电子股份有限公司

发明/设计人:张沼栋;沈柏平

主申请人地址:361101 福建省厦门市火炬高新区翔安产业区翔安西路6999号

专利代理机构:北京品源专利代理有限公司 11332

代理人:孟金喆%胡彬

国别省市代码:福建;35

权利要求：

一种掩膜板，其特征在于，包括衬底，所述衬底上设置有开口区域和遮挡区域，所述开口区域由多个基础图形组合而成；所述开口区域与所述遮挡区域的面积比为α，1/3≤α<1。