一种空间光调制装置及投影系统

摘要：

本实用新型公开了一种空间光调制装置，包括用于起到支撑和固定作用的支架，由光处理元件构成的光处理区域，以及设置在光处理区域周边的黑色衬底；还包括设置在光处理区域入射光入射一侧的、对入射光能量具有消减作用的挡光栏，挡光栏至少覆盖光处理区域的边缘。入射光将照射到光处理区域周边的部分光，会照射到挡光栏上使光照消减，避免了光处理区域周边因光照产生较高温度，减少了光处理区域边缘出现烧坏的情况，因此可提高空间光调制装置的使用寿命。本实用新型还公开一种包括上述空间光调制装置的投影系统。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201621081991.1

申请日期：2016-09-26

公开/公告号：CN206178329U

公开/公告日：2017-05-17

主分类号：G03B21/20(2006.01)I

申请/专利权人:深圳市光峰光电技术有限公司

发明/设计人:江浩;杨佳翼;陈红运;李屹

主申请人地址:518055 广东省深圳市南山区西丽镇茶光路南侧深圳集成电路设计应用产业园401

专利代理机构:深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285

代理人:王仲凯

国别省市代码:广东;44

权利要求：

一种空间光调制装置，包括用于起到支撑和固定作用的支架，由光处理元件构成的光处理区域，以及设置在所述光处理区域周边的黑色衬底；其特征在于，还包括：设置在所述光处理区域入射光入射一侧的、对入射光能量具有消减作用的挡光栏，所述挡光栏至少覆盖所述光处理区域的边缘。