一种双台面直写式曝光机的曝光系统

摘要：

本实用新型属于直写式曝光机的技术领域，具体涉及一种双台面直写式曝光机的曝光系统和曝光方法；解决的技术问题为：提供一种结构稳定、曝光效率较高的双台面直写式曝光机的曝光系统；采用的技术方案为：包括支撑板，支撑板通过支撑柱设置于双台面上方，支撑板上设有挖空部，挖空部的两侧分别设置有两根线性导轨，两根线性导轨上设有光路安装板，光路安装板通过驱动机构可在两条线性导轨上作步进运动，步进运动的方向垂直于双台面运动的方向，光路安装板上设有用于发射曝光光束的光路镜筒，光路镜筒的曝光方向朝向所述双台面；本实用新型适用于PCB板曝光领域。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201620831924.0

申请日期：2016-08-02

公开/公告号：CN205862101U

公开/公告日：2017-01-04

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:无锡影速半导体科技有限公司

发明/设计人:赵永翠;陈海巍

主申请人地址:214135 江苏省无锡市新区太湖国际科技园菱湖大道200号中国传感网国际创新园F3栋1-2层

专利代理机构:常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231

代理人:翁斌

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种双台面直写式曝光机的曝光系统，包括支撑板(1)，所述支撑板(1)通过支撑柱(2)设置于双台面(3)上方，其特征在于：所述支撑板(1)上设有挖空部(9)，所述挖空部(9)的两侧分别设置有两根线性导轨(4)，两根线性导轨(4)上设有光路安装板(5)，所述光路安装板(5)通过驱动机构可在两条线性导轨(4)上作步进运动，所述步进运动的方向垂直于所述双台面(3)运动的方向，所述光路安装板(5)上设有用于发射曝光光束的光路镜筒(6)，所述光路镜筒(6)的曝光方向朝向所述双台面(3)。