一种掩膜板

摘要：

本实用新型提供了一种掩膜板，包括：完全透光区和完全不透光区；在完全透光区和完全不透光区的交界位置处设置有半透光结构，且半透光结构的透光性从靠近完全透光区的一侧向靠近完全不透光区的一侧逐渐减弱。本实用新型所提供的掩膜板，在完全透光区和完全不透光区的边界位置处设置半透光结构，且该半透光结构的透光性从靠近完全透光区的一侧向靠近完全不透光区的一侧逐渐减弱，可以对由该掩膜板在树脂层上形成的挖空区域的边界处斜坡的坡度进行控制改良，与现有技术中相比，斜坡的坡度缓和，从而避免了由于树脂层挖空区域边界处斜坡较陡峭而导致的树脂层上下层金属发生短路的现象的发生。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201620514549.7

申请日期：2016-05-30

公开/公告号：CN205880497U

公开/公告日：2017-01-11

主分类号：G03F1/32(2012.01)I

申请/专利权人:鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司%京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:史大为

主申请人地址:017000 内蒙古自治区鄂尔多斯市东胜区鄂尔多斯装备制造基地

专利代理机构:北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人:许静%黄灿

国别省市代码:内蒙古;15

权利要求：

一种掩膜板，包括：完全透光区和完全不透光区；其特征在于，在所述完全透光区和所述完全不透光区的交界位置处设置有半透光结构，且所述半透光结构的透光性从靠近所述完全透光区的一侧向靠近所述完全不透光区的一侧逐渐减弱。