一种控制辅助图形信号误报率的OPC建模方法

摘要：

一种控制OPC辅助图形信号误报率的建模方法，包括设计测试主图形；所述测试主图形通常包含一维和二维的标准图形，并设计多组辅助图形添加在标准一维和二维图形周边；收集测试主图形的在线线宽量测数据及所述多组辅助图形成像数据；建立测试主图形版图与线宽量测数据之间的对应文件，增加多组辅助图形的成像图形信息与信号监测数据之间的对应点；进行模型拟合运算，使模型的线宽值与量测的线宽值残余误差达到统计最小，同时在模型拟合运算过程中增加监控多组辅助图形的成像图形信号；输出模型进行OPC图形修正。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201611270729.6

申请日期：2016-12-30

公开/公告号：CN106773544A

公开/公告日：2017-05-31

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海集成电路研发中心有限公司

发明/设计人:卢意飞

主申请人地址:201210 上海市浦东新区张江高斯路497号

专利代理机构:上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275

代理人:吴世华%陈慧弘

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种控制OPC辅助图形信号误报率的建模方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1：设计测试主图形；所述测试主图形通常包含一维和二维的标准图形，并设计多组辅助图形添加在标准一维和二维图形周边；步骤S2：收集所述测试主图形的在线线宽量测数据及所述多组辅助图形成像数据；步骤S3：建立所述测试主图形版图与线宽量测数据之间的对应文件，增加所述多组辅助图形的成像图形信息与信号监测数据之间的对应点；步骤S4：进行模型拟合运算，使所述模型的线宽值与量测的线宽值残余误差达到统计最小，同时在模型拟合运算过程中增加监控增加所述多组辅助图形的成像图形信号；步骤S5：输出所述模型进行OPC图形修正。