一种处理基板表面碳化光阻的方法及装置

摘要：

本发明公开了一种处理基板表面碳化光阻的方法。所述方法包括：使空气在高电压下被电离，产生离子；用电极吸引或排斥所述离子；所述离子在吸引或排斥力的作用下轰击所述基板表面，清除碳化光阻。本发明还进一步公开了一种处理基板表面碳化光阻的装置。本发明以电离空气得到的离子轰击所述基板表面，达到清除碳化的光阻的目的，可以完全清除碳化的光阻，同时节约成本，提高产能。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201611217732.1

申请日期：2016-12-26

公开/公告号：CN106647182A

公开/公告日：2017-05-10

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:武汉华星光电技术有限公司

发明/设计人:彭少凯

主申请人地址:430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋

专利代理机构:深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280

代理人:钟子敏

国别省市代码:湖北;42

权利要求：

一种处理基板表面碳化光阻的方法，其特征在于，包括：使空气在高电压下被电离，产生离子；用电极吸引所述离子；所述离子在吸引或排斥力的作用下轰击所述基板表面，清除碳化光阻。