光致抗蚀剂组合物、包括光致抗蚀剂组合物的经涂布衬底和形成电子装置的方法

摘要：

一种光致抗蚀剂组合物，其包括酸敏性聚合物和具有式(I)的光酸产生剂化合物：<img file="DDA0001187548250000011.TIF" wi="357" he="375" />其中，EWG、Y、R和M⁺与说明书中所描述相同。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201611196014.0

申请日期：2016-12-21

公开/公告号：CN106933030A

公开/公告日：2017-07-07

主分类号：G03F7/004(2006.01)I

申请/专利权人:罗门哈斯电子材料有限责任公司

发明/设计人:E·阿卡德;W·威廉姆斯三世;J·F·卡梅伦

主申请人地址:美国马萨诸塞州

专利代理机构:上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人:陈哲锋%胡嘉倩

国别省市代码:美国;US

权利要求：

一种光致抗蚀剂组合物，其包含：酸敏性聚合物，溶剂，和具有式(I)的光酸产生剂化合物：<img file="FDA0001187548230000011.TIF" wi="354" he="357" />其中：EWG为吸电子基团；Y为单键或键联基团；R为氢、直链或分支链C_1‑20烷基、直链或分支链C_2‑20烯基、单环或多环C_3‑20环烷基、单环或多环C_3‑20环烯基、单环或多环C_3‑20杂环烷基、单环或多环C_3‑20杂环烯基、单环或多环C_6‑20芳基、单环或多环C₁‑20杂芳基，除了氢以外的其中的每一个经取代或未经取代，其中当R包含可聚合基团时，所述光酸产生剂为酸敏性聚合物的聚合单元；且M⁺为有机阳离子。