图案形成方法及装置、图案曝光方法、以及元件制造方法

摘要：

本发明提供一种图案形成方法及装置、图案曝光方法、以及元件制造方法，将基板搬送于长边方向，于基板的被处理面形成电子元件用的图案，包含：一边利用引导构件分别支承在基板的长边方向上分离既定距离的2处位置，一边以使基板的2处位置之间在与长边方向正交的短边方向以既定程度收缩的方式，对基板的既定距离的部分赋予长边方向张力的步骤；在2处位置之间，在无摩擦的状态或接触区域小的状态下，利用基板支承构件将基板的被处理面的背侧的面的一部分，平面状或曲面状地予以支承的步骤；在与在以既定程度收缩的状态下利用基板支承构件予以支承的基板的一部分对应而被设定于被处理面的区域内形成电子元件用的图案的步骤。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201611176699.2

申请日期：2012-09-27

公开/公告号：CN106919003A

公开/公告日：2017-07-04

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:株式会社尼康

发明/设计人:堀正和;奈良圭;横田宗泰

主申请人地址:日本东京都

专利代理机构:北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人:董惠石

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

一种图案形成方法，将具有可挠性的长条的片状基板搬送于长边方向，于所述片状基板的被处理面形成电子元件用的图案，包含：一边利用引导构件分别支承在所述片状基板的长边方向上分离既定距离的2处位置，一边以使所述片状基板的所述2处位置之间在与所述长边方向正交的短边方向以既定程度收缩的方式，对所述片状基板的所述既定距离的部分赋予所述长边方向的张力的步骤；在所述2处位置之间，在无摩擦的状态或接触区域小的状态下，利用基板支承构件将所述片状基板的所述被处理面的背侧的面的一部分，平面状或曲面状地予以支承的步骤；以及在被设定于所述被处理面的区域内形成所述电子元件用的图案的步骤，所述区域与在以所述既定程度收缩的状态下利用所述基板支承构件予以支承的所述片状基板的一部分对应而被设定于所述被处理面。