一种曝光设备及曝光方法

摘要：

本发明涉及薄膜制备领域，公开了一种曝光设备及曝光方法。所述曝光设备通过柔性的固定板来固定待曝光的基板，且整个基板与固定板紧密贴合，当固定板发生形变时，能够带动其上的基板发生一致的形变。从而将调整基板与掩膜板之间的曝光间隙转换为调整固定板与掩膜板之间的距离。通过驱动固定板上的至少两个均匀分布的调整点向靠近掩膜板或远离掩膜板的方向移动，可以控制所有调整点与掩膜板之间的距离一致，实现整个固定板与掩膜板之间的距离大致一致，即，整个基板与掩膜板之间的曝光间隙一致，然后利用掩膜板对基板进行曝光，保证曝光均一性，提高产品质量。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201611062698.5

申请日期：2016-11-28

公开/公告号：CN106527054A

公开/公告日：2017-03-22

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%合肥鑫晟光电科技有限公司

发明/设计人:郭光龙

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人:许静%刘伟

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种曝光设备，包括工作台和固定机构，所述固定机构用于将掩膜板固定在工作台的上方，其特征在于，所述工作台包括柔性的固定板，待曝光的基板固定放置于所述固定板的靠近掩膜板的表面上，且整个所述基板与所述固定板的表面紧密贴合，所述固定板包括至少两个均匀分布的调整点，所述曝光设备还包括：检测单元，用于获取与所述调整点和掩膜板之间的距离相关的第一参数；驱动机构，设置在所述固定板的背离所述掩膜板的一侧，用于驱动所述固定板的调整点向靠近所述掩膜板或远离所述掩膜板的方向移动；控制单元，与所述检测单元连接，根据所述第一参数生成调整参数，并根据所述调整参数控制所述驱动机构驱动所述固定板的调整点向靠近所述掩膜板或远离所述掩膜板的方向移动，使所述固定板的所有调整点与所述掩膜板之间的距离一致。