一种物像面定位系统以及定位方法

摘要：

本发明公开了一种物像面定位系统以及物像面定位系统的定位方法。所述物像面定位系统包括：物镜系统，测量塔，定位板，检焦系统，调整机构，辅助折光镜，测量设备；所述物镜系统与所述测量塔装配在一起；所述测量塔上设置有三个位移传感器，所述三个位移传感器共面；所述定位板设置在所述三个位移传感器形成的面上；所述辅助折光镜设置在所述定位板上；所述物镜系统设置在检焦系统上；所述检焦系统的下面设置有调整机构；所述调整机构上设置有硅片。本发明还公开了一种物像面定位系统的定位方法。所述物像面定位系统以及物像面定位系统的定位方法能实现物像面的定位，为极紫外曝光装置的物镜系统集成提供可靠的基准。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610997333.5

申请日期：2016-11-12

公开/公告号：CN106569397A

公开/公告日：2017-04-19

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

发明/设计人:周烽;王辉;郭本银;谢耀;王丽萍

主申请人地址:130033 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号

专利代理机构:深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316

代理人:赵勍毅

国别省市代码:吉林;22

权利要求：

一种物像面定位系统，其特征在于，包括：物镜系统，测量塔，定位板，检焦系统，调整机构，辅助折光镜，测量设备；所述物镜系统与所述测量塔装配在一起；所述测量塔上设置有三个位移传感器，所述三个位移传感器共面，且该面与理想物面重合；所述定位板设置在所述三个位移传感器形成的面上；所述辅助折光镜设置在所述定位板上；所述物镜系统设置在检焦系统上；所述检焦系统的下面设置有调整机构；所述调整机构上设置有硅片；所述测量设备与所述辅助折光镜相对。