一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法

摘要：

本发明实施例提供一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法，属于显示技术领域，能够解决UV掩膜版制作的遮光板的型号特定、UV掩膜版的利用率过低的问题。包括设置在机架上的遮光板载台、第一定位装置以及掩膜版载台，遮光板载台连接第一定位装置，并可在第一定位装置的带动下在水平面上移动，机架上还设置有透明对位件，透明对位件上设置有对位标，透明对位件通过第二定位装置设置于遮光板载台和掩膜版载台之间，第二定位装置可带动透明对位件在水平面上移动。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610951540.7

申请日期：2016-11-01

公开/公告号：CN106338892A

公开/公告日：2017-01-18

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:合肥京东方光电科技有限公司%京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:史高飞;张俊;周如;杨丽娟;刘承娜

主申请人地址:230012 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号

专利代理机构:北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人:申健

国别省市代码:安徽;34

权利要求：

一种曝光机，包括设置在机架上的遮光板载台、第一定位装置以及掩膜版载台，所述遮光板载台连接所述第一定位装置，并可在所述第一定位装置的带动下在水平面上移动，其特征在于，所述机架上还设置有透明对位件，所述透明对位件上设置有对位标，所述透明对位件通过第二定位装置设置于所述遮光板载台和所述掩膜版载台之间，所述第二定位装置可带动所述透明对位件在水平面上移动。