光掩模相关基板所使用的基板清洗装置以及基板清洗方法

摘要：

本发明的课题在于，提供一种光掩模相关基板所使用的基板清洗装置以及基板清洗方法，所述基板清洗装置在进行清洗处理时，可以防止异物附着在基板上。为了解决上述课题，本发明提供一种光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，具备：保持构件，其只保持基板的端面；旋转机构，其使该保持构件旋转；以及，喷嘴，其向所述基板的至少表面侧供给液体，所述基板通过该旋转机构而与所述保持构件一起旋转；所述基板清洗装置的特征在于，至少一个所述保持构件的表面具有导电性，该具有导电性的保持构件接地。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610916600.1

申请日期：2016-10-20

公开/公告号：CN107037688A

公开/公告日：2017-08-11

主分类号：G03F1/82(2012.01)I

申请/专利权人:信越化学工业株式会社

发明/设计人:沼波恒夫;稻月判臣;桜田豊久

主申请人地址:日本东京都

专利代理机构:隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人:李英艳

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

一种光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，具备：保持构件，只保持基板的端面；旋转机构，使所述保持构件旋转；以及，喷嘴，向所述基板的至少表面侧供给液体，所述基板通过该旋转机构而与所述保持构件一起旋转；所述清洗装置的特征在于，至少一个所述保持构件的表面具有导电性，所述具有导电性的保持构件接地。