一种在晶圆光刻工艺中与接触式光刻机配合使用的光刻板及其应用方法

摘要：

本发明提出一种与接触式光刻机配合使用的新的光刻板及其应用方法，利用该光刻板能够精确地计算晶圆平边和光刻图形的偏差角度。该光刻板上对应于晶圆平边的区域设置有标尺图形，所述标尺图形包括若干条平行标尺，其中有两条平行标尺分别作为对准基线和平行对准标示；所述对准基线位于整个标尺图形的中部，是标尺图形中最长的一条平行标尺；所述平行对准标示与对准基线之间的距离用于标示晶圆平边与对准基线可允许的最大偏差。按照上述方案在平边对应的光刻板区域制作标尺图形。光刻时，通过精确地控制晶圆平边与标尺图形中对准基线的距离，既可以实现左右两侧平行对准，也可以通过计算将偏转角度转化成距离，实现精确的平边补偿对准。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610877076.1

申请日期：2016-09-30

公开/公告号：CN106292176A

公开/公告日：2017-01-04

主分类号：G03F1/42(2012.01)I

申请/专利权人:西安立芯光电科技有限公司

发明/设计人:孙丞;杨国文

主申请人地址:710077 陕西省西安市高新开发区丈八六路56号2号楼1层

专利代理机构:西安智邦专利商标代理有限公司 61211

代理人:胡乐

国别省市代码:陕西;61

权利要求：

一种在晶圆光刻工艺中与接触式光刻机配合使用的光刻板，其特征在于：该光刻板上对应于晶圆平边的区域设置有标尺图形，所述标尺图形包括若干条平行标尺，其中有两条平行标尺分别作为对准基线和平行对准标示；所述对准基线位于整个标尺图形的中部，是标尺图形中最长的一条平行标尺；所述平行对准标示与对准基线之间的距离用于标示晶圆平边与对准基线可允许的最大偏差。