一种光刻胶及刻蚀方法

摘要：

本发明公开了一种光刻胶及刻蚀方法，该光刻胶中含有在紫外光照射下电离产生离子的电离物质。这样通过在光刻胶中增加电离物质，在刻蚀过程中通过紫外光作用使得电离物质电离产生离子，而离子之间通过电荷间引力作用加速移动，从而实现各区域之间离子浓度的平衡。这样可以及时补充进行刻蚀的基板上各区域消耗掉的离子，尤其在图形密集区可以及时获得离子的补充，进而实现各区域的刻蚀速率的平衡，保证了整个基板的刻蚀均一性。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610843209.3

申请日期：2016-09-22

公开/公告号：CN106444281A

公开/公告日：2017-02-22

主分类号：G03F7/004(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:陈善韬

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291

代理人:黄志华

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种光刻胶，其特征在于，所述光刻胶中含有在紫外光照射下电离产生离子的电离物质。