全息制作表面拉曼增强基底的方法与光刻系统

摘要：

本发明公开了一种制作表面拉曼增强基底的方法与光刻系统，利用两束相干光产生干涉，在光刻胶表面记录相干光的干涉条纹，通过控制两束光的角度，精密控制光栅的周期；再通过实时显影在光刻胶表面形成浮雕型的光栅；最后在光栅表面用镀膜设备镀一层表面增强拉曼散射金属活性层。解决了用简单的方法与设备来得到大面积周期性表面拉曼增强基底的技术难题。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610829203.0

申请日期：2016-09-19

公开/公告号：CN106292200A

公开/公告日：2017-01-04

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:苏州大学

发明/设计人:邹文龙;吴建宏;蔡志坚

主申请人地址:215000 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号

专利代理机构:苏州市新苏专利事务所有限公司 32221

代理人:杨晓东

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种全息制作表面拉曼增强基底的方法，步骤如下：1)在光栅基片上旋涂光刻胶薄膜；2)对光刻胶薄膜烘烤，坚膜；3)在所述的光刻胶薄膜的正交方向上以二次曝光的方式全息干涉光刻；具体步骤为在光刻胶薄膜上完成第一次曝光后，将光栅基片旋转90°，进行第二次曝光，通过两次正交曝光的方式在光刻胶薄膜上记录二维全息干涉条纹；4)对已曝光好的光栅进行实时显影，制作表面浮雕光刻胶光栅；5)在光刻胶光栅表面用镀膜设备镀一层表面增强拉曼散射金属活性层。