光致抗蚀剂剥离剂组合物
本发明公开一种光致抗蚀剂剥离剂组合物。所述光致抗蚀剂去除用剥离剂组合物可在避免对金属图案的腐蚀和/或对有机/无机膜的损伤的前提下除去光致抗蚀剂。所述光致抗蚀剂去除用剥离剂组合物组成为相对于所述剥离剂组合物的总重量而包含:15重量%至80重量%的非质子性极性溶剂,包含有N,N‑二甲基丙酰胺;25重量%至80重量%的质子性极性溶剂;1重量%至15重量%的胺系化合物。
发明专利
CN201610685935.7
2016-08-18
CN106873319A
2017-06-20
G03F7/42(2006.01)I
三星显示有限公司%株式会社东进世美肯
金俸均;朴弘植;郑在祐;金炳郁;赵泰杓;许舜范;张斗瑛;金东宽
韩国京畿道龙仁市
北京铭硕知识产权代理有限公司 11286
孙昌浩%李盛泉
韩国;KR
一种光致抗蚀剂去除用剥离剂组合物,相对于所述剥离剂组合物的总重量而包含:15重量%至80重量%的非质子性极性溶剂,包含有N,N‑二甲基丙酰胺;25重量%至80重量%的质子性极性溶剂;以及1重量%至15重量%的胺系化合物。