一种光刻机及方法

摘要：

本发明涉及一种光刻机，具体涉及一种曝光装置可旋转的光刻机。包括工作平台、PLC控制系统、曝光装置。组装时，X轴滑动平台与Z轴滑动平台通过滑动槽连接，X轴滑动平台和Z轴滑动平台分别与电机连接，实现平移，曝光装置设置在X轴靠后位置，曝光装置与电机连接，实现调节曝光装置与X轴的夹角，托盘与电机连接，曲面产品放置在托盘上，用设置在托盘的夹角固定，避免旋转过程中被甩出。通过曝光装置照射的光线的垂直入射，提高光刻的均匀性，实现光刻的高精度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610670785.2

申请日期：2016-08-15

公开/公告号：CN106094447A

公开/公告日：2016-11-09

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:东莞同济大学研究院%东莞科伏精密制造有限公司

发明/设计人:李宏强;魏泽勇;曾威;武超;林彦霆;黄宇宇

主申请人地址:523808 广东省东莞市松山湖高新区创新科技园11号楼302

专利代理机构:东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215

代理人:詹晓云

国别省市代码:广东;44

权利要求：

一种光刻机，其特征在于：包括工作平台、PLC控制系统和曝光装置；所述工作平台包括X轴滑动平台、Z轴滑动平台，X轴滑动平台和Z轴滑动平台分别连接有电机，X轴滑动平台和Z轴滑动平台滑动连接；?PLC控制系统，用于控制曝光装置及X轴滑动平台、Z轴滑动平台的运动轨迹；曝光装置安装于X轴或Z轴滑动平台上，曝光装置连接有第一旋转电机。