光掩模、光掩模的设计方法、光掩模坯料和显示装置的制造方法

引用

摘要：

本发明提供在图案的转印时能够形成有利形状的抗蚀剂图案且显示出优异的转印性的光掩模、光掩模的制造方法、光掩模的设计方法、光掩模坯料和显示装置的制造方法。光掩模在透明基板上具备包含经图案化的相移膜的转印用图案。上述转印用图案包含在上述透明基板上形成有相移膜的相移部、和上述透明基板露出的透光部。设上述相移膜具有的、对于g线的相移量(度)为<img file="DDA0001018749590000017.TIF" wi="78" he="48" />对于h线的相移量(度)为<img file="DDA00010187495900000112.TIF" wi="82" he="58" />对于i线的相移量(度)为<img file="DDA00010187495900000110.TIF" wi="51" he="56" />时，则满足<img file="DDA0001018749590000019.TIF" wi="147" he="59" />且这些<img file="DDA0001018749590000018.TIF" wi="251" he="59" />中，最接近180度的值为<img file="DDA00010187495900000111.TIF" wi="59" he="44" />。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610423251.X

申请日期：2016-06-15

公开/公告号：CN106324977A

公开/公告日：2017-01-11

主分类号：G03F1/26(2012.01)I

申请/专利权人:HOYA株式会社

发明/设计人:小林周平

主申请人地址:日本东京都

专利代理机构:北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人:庞东成

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

一种光掩模，其为在透明基板上具备包含经图案化的相移膜的转印用图案的光掩模，其特征在于，所述转印用图案包含在所述透明基板上形成有相移膜的相移部、和所述透明基板露出的透光部，设所述相移膜具有的、对于g线的相移量(度)为<img file="FDA0001018749560000011.TIF" wi="86" he="47" />所述相移膜具有的、对于h线的相移量(度)为<img file="FDA0001018749560000012.TIF" wi="75" he="62" />所述相移膜具有的、对于i线的相移量(度)为<img file="FDA0001018749560000013.TIF" wi="46" he="55" />时，则满足<img file="FDA0001018749560000014.TIF" wi="147" he="55" />并且，这些<img file="FDA0001018749560000015.TIF" wi="254" he="62" />中，最接近180度的值为<img file="FDA0001018749560000016.TIF" wi="81" he="47" />

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