双层对准装置和双层对准方法

摘要：

本发明提供一种双层对准装置，包括固定框架及设置在固定框架上的第一测量装置及标记板，标记板设置有框架固定标记；运动台以及设置于运动台上的基准标记、运动台标记，和第二测量装置；通过第一测量装置测量基准标记和运动台标记的相对位置关系，通过第二测量装置测量基准标记和框架固定标记的相对位置关系，从而获得运动台标记和框架固定标记的最终相对位置关系，并根据最终相对位置关系移动所述运动台至设定位置。本发明相应地还提供一种双层对准方法，系统中只有运动台是运动部件。使用静态标定方法实现坐标关系标定，标定精度不受运动台定位精度影响，可以提高对准精度。使用双镜头或多镜头设计，配置灵活并能提高对准效率。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610284287.4

申请日期：2016-04-29

公开/公告号：CN107329379A

公开/公告日：2017-11-07

主分类号：G03F9/00(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备（集团）股份有限公司

发明/设计人:周许超;潘炼东;朱树存

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种双层对准装置，其特征在于，包括：固定框架及设置在所述固定框架上的第一测量装置及标记板，所述标记板设置有框架固定标记；运动台以及设置于所述运动台上的基准标记、运动台标记，和第二测量装置；通过所述第一测量装置，测量所述基准标记和所述运动台标记的相对位置关系，通过所述第二测量装置，测量所述基准标记和所述框架固定标记的相对位置关系，从而获得所述运动台标记和所述框架固定标记的最终相对位置关系，并根据所述最终相对位置关系移动所述运动台至设定位置。