一种投影曝光装置及方法

摘要：

本发明提出了一种投影曝光装置和方法，在掩膜台和工件台之间的焦面测量系统和对准测量系统中，通过焦面测量系统测量基板面型的变化，对准测量装置系统具有调焦功能，通过焦面测量系统测量基板面型的变化后，对准测量系统根据焦面测量系统测量的数据进行调焦，在调焦完成后，对准测量系统装置中显示的基板上各点的坐标即为各点在基板面型发生变化后的坐标，计算各点的坐标变化可得到掩膜版与现在基板的相对位置关系，即可通过移动工件台进行补偿。这样即使对准测量系统和焦面测量系统的测量焦面不相同，但也可以通过计算、调焦弥补该误差。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610200713.1

申请日期：2016-03-31

公开/公告号：CN107290937A

公开/公告日：2017-10-24

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备（集团）股份有限公司

发明/设计人:陈跃飞

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种投影曝光装置，依次包括：一照明光源；一照明光学系统；掩膜台，用于承载掩膜版；投影物镜组，由多个子物镜拼接，形成拼接曝光视场；工件台，用于承载一基板，在扫描曝光过程中，所述照明光源发射的光束，经过所述照明光学系统，照射到所述单元掩膜版上，并将设置在所述单元掩膜版的图案，经过所述投影物镜组形成的所述拼接曝光视场，转印到对应的所述单元基板上；所述基板根据所述拼接曝光视场划分为多个曝光区域；以及与掩膜台、工件台皆信号连接的控制系统，所述投影曝光装置还包括与所述控制系统皆电路连接的对准测量系统和焦面测量系统，所述对准测量系统包括若干个对准测量装置，所述焦面测量系统包括若干个焦面测量装置，所述对准测量系统和所述焦面测量系统设置在所述掩膜台和所述工件台之间，其特征在于，每个所述对准测量装置皆具有调焦功能，在对任意一个所述曝光区域扫描曝光过程前或扫描曝光过程中，每个所述焦面测量装置根据实时测量的所在的所述曝光区域中所述单元基板的焦面信息，使每个所述对准测量装置实时调焦对准；当完成一个所述曝光区域的扫描曝光后，对下一个所述曝光区域进行扫描曝光，则每个所述对准测量装置重新根据每个所述焦面测量装置测得的实时数据进行实时调焦对准。