一种光强调制方法

摘要：

本发明公开了一种光强调制方法，包括：步骤1：根据照明系统的弥散斑函数、照明视场的既有光强分布及目标光强分布，计算得到所需的掩模版透过率分布；步骤2：根据目标光强分布的精度需求，对掩模版进行网格划分，根据所述掩模版透过率分布和透过率分布精度需求，继而确定每个网格内不透光点的分布；步骤3：根据所述不透光点的分布，制作加工掩模版；然后，将所述掩模版设置在照明系统中。本发明具有调制精度高、调制视场面积大、调制光强范围大、适用波长范围大及制造工艺成熟等优点。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610200470.1

申请日期：2016-03-31

公开/公告号：CN107290935A

公开/公告日：2017-10-24

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备（集团）股份有限公司

发明/设计人:马鹏川;田毅强

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种光强调制方法，其特征在于，包括：步骤1：根据照明系统的弥散斑函数、照明视场的既有光强分布及目标光强分布，计算得到所需的掩模版透过率分布；步骤2：根据目标光强分布的精度需求，对掩模版进行网格划分，根据所述掩模版透过率分布和透过率分布精度需求，继而确定每个网格内不透光点的分布；步骤3：根据所述不透光点的分布，制作加工掩模版；然后，将所述掩模版设置在照明照明系统中。