一种光刻机投影物镜的调平装置及调平方法

摘要：

本发明公开了一种光刻机投影物镜的调平装置及调平方法，该调平装置包括工作台、用于支撑工作台的吊框，以及用于支撑吊框的吊框支架、设于吊框支架上方的安装基板、设于安装基板上的物镜框架、安装于物镜框架上的光电测量系统和投影物镜，与物镜框架表面连接的传感器测量系统、设于安装基板上且与物镜框架连接的主动阻尼器、设于主动阻尼器下方的垂向调整机构、以及分别与传感器测量系统、主动阻尼器和垂向调整机构电联接的控制器。本发明不仅实现了投影物镜和光电测量系统不受外界振动和冲击的影响的目的，同时使投影物镜和光电测量系统与支撑工件台的吊框位置始终保持相对静止状态，提高了投影物镜的曝光成像质量以及光电测量系统的检测性能。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610194658.X

申请日期：2016-03-30

公开/公告号：CN107290933A

公开/公告日：2017-10-24

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备（集团）股份有限公司

发明/设计人:杨玉杰

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种光刻机投影物镜的调平装置，包括工作台、用于支撑所述工作台的吊框，以及用于支撑所述吊框的吊框支架、设于所述吊框支架上方的安装基板、设于所述安装基板上的物镜框架、安装于所述物镜框架上的光电测量系统和至少一个投影物镜，其特征在于，还包括与所述物镜框架表面连接的传感器测量系统、设于所述安装基板上且与所述物镜框架连接的主动阻尼器、设于所述主动阻尼器下方的垂向调整机构、以及分别与所述传感器测量系统、主动阻尼器和垂向调整机构电联接的控制器。