一种调焦对准装置及对准方法

摘要：

本发明公开了一种调焦对准装置及对准方法，用于基底台上基底的调焦和对准，所述调焦对准装置包括第一探测支路，第一探测支路沿光路方向依次包括：光源，产生均匀的照明光；投影狭缝阵列，照明光经投影狭缝阵列后产生调焦光斑和对准光斑，投射至基底表面；分光棱镜，分离经基底反射的调焦光斑和对准光斑；探测单元，包括调焦探测器和对准探测器，调焦探测器对调焦光斑成像得到调焦信号，对准探测器对对准光斑成像得到对准信号；以及信号处理单元，根据调焦信号获得基底的垂向高度变化，根据对准信号获得基底的水平向位置变化；第一探测支路满足Scheimpflug成像条件。本发明使基底上的标记清晰成像到探测器上，提高了调焦和对准精度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610113256.2

申请日期：2016-02-29

公开/公告号：CN107168018A

公开/公告日：2017-09-15

主分类号：G03F7/207(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备（集团）股份有限公司

发明/设计人:齐景超;陈飞彪;吴旭婷;于大维

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种调焦对准装置，用于基底台上基底的调焦和对准，其特征在于，包括第一探测支路，所述第一探测支路沿光路方向依次包括：光源，产生均匀的照明光；投影狭缝阵列，所述照明光经所述投影狭缝阵列后产生调焦光斑和对准光斑，投射至所述基底表面；分光棱镜，分离经所述基底反射的调焦光斑和对准光斑；探测单元，包括调焦探测器和对准探测器，所述调焦探测器对所述调焦光斑成像得到调焦信号，所述对准探测器对所述对准光斑成像得到对准信号；以及信号处理单元，根据所述调焦信号获得所述基底的垂向高度变化，根据所述对准信号获得所述基底的水平向位置变化；所述第一探测支路满足Scheimpflug成像条件。