一种纳米压印复合模板的制备方法

摘要：

本发明公开了一种纳米压印复合模板的制备方法，包括以下步骤：1)母板的制备；2)溶液的准备；3)纳米压印复合模板的制备。本发明的纳米压印复合模板的制备方法，将硫一烯点击化学和POSS氟化物的优势结合起来，与传统的PDMS软模板相比，该软模板具有低表面张力、高脱模效率、高机械强度以及较高的热稳定性的特点，应用于压印模板可以得到很好的脱模效果以及大范围高精细的图形结构，不会产生图案歪斜的现象。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610089336.9

申请日期：2016-02-17

公开/公告号：CN107092162A

公开/公告日：2017-08-25

主分类号：G03F7/00(2006.01)I

申请/专利权人:苏州光舵微纳科技股份有限公司

发明/设计人:赵常宁;史晓华

主申请人地址:215513 江苏省苏州市常熟市常熟经济技术开发区（四海路11号）科创园2号楼102

专利代理机构:苏州华博知识产权代理有限公司 32232

代理人:魏亮芳

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种软模板材料的制备方法，所述软模板材料由巯基低聚倍半硅氧烷(POSS‑SH)嫁接低表面能的氟化交联剂而合成，所述软模板材料的合成由下述式I所示：<img file="FDA0000925185500000011.TIF" wi="1919" he="431" />