一种降低光刻物镜压力灵敏度的方法及其应用

摘要：

本发明公开了一种降低光刻物镜压力灵敏度的方法及其应用，该方法包括以下步骤：首先对光刻物镜内的各个透镜间隔针对空气进行焦面或倍率的压力灵敏度测量，并对所有测量数据进行求和得到总和A；接着根据得到的总和A的正负情况，找出与总和A正负一致的N个压力灵敏度最大的透镜间隔，N为≥1的整数；其次对选出的N个透镜间隔针对氦气进行焦面或倍率的压力灵敏度测量；再次根据选出的N个透镜间隔在S1和S3中的压力灵敏度测量值，计算氦气对应的压力灵敏度减小率；最后计算该N个透镜间隔内氦气的比例，使各个透镜间隔的压力灵敏度测量数据之和接近于0。本发明简化了光刻物镜结构的设计难度，节省了物镜开发成本，提高了光刻物镜的套准精度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201610044309.X

申请日期：2016-01-22

公开/公告号：CN106997150A

公开/公告日：2017-08-01

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:安福平;郭银章

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种降低光刻物镜压力灵敏度的方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：对光刻物镜内的各个透镜间隔针对空气进行焦面或倍率的压力灵敏度测量，并对所有测量数据进行求和得到总和A；S2：根据得到的总和A的正负情况，找出与总和A正负一致的N个压力灵敏度最大的透镜间隔，N为≥1的整数；S3：对S2中选出的N个透镜间隔针对氦气进行焦面或倍率的压力灵敏度测量；S4：根据S2中选出的N个透镜间隔在S1和S3中的压力灵敏度测量值，计算氦气对应的压力灵敏度减小率；S5：计算该N个透镜间隔内氦气的比例，使各个透镜间隔的压力灵敏度测量数据之和接近于0。