具有图案化装置环境的光刻设备

摘要：

一种光刻设备在图案化装置(MA)与图案化装置遮蔽刀片(REB‑X,Y)之间注入气体，以帮助保护图案化装置免受污染。可以通过布置在图案化装置的至少一侧的一个或多个气体供应喷嘴(200)，将气体注入到在图案化装置与图案化装置刀片之间限定的空间中。一个或多个气体供应喷嘴耦合到框架，图案化装置支承结构(MT)相对于该框架移动。每个喷嘴可以被构造和布置为在反射图案化装置的至少图案化区域上方供应气体。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201580071512.X

申请日期：2015-12-07

公开/公告号：CN107111249A

公开/公告日：2017-08-29

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML控股股份有限公司

发明/设计人:P·科彻尔斯珀格;D·拉米瑞兹

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:北京市金杜律师事务所 11256

代理人:王茂华%崔卿虎

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

一种光刻设备，包括：支承结构，其被构造和布置为支承反射图案化装置，所述反射图案化装置被配置为对照射光束赋予图案以形成图案化辐射光束；投射系统，其被构造和布置为接收由所述反射图案化装置反射的所述图案化辐射光束，并且被配置为将所述图案化辐射光束投射到衬底上；框架，所述支承结构相对于所述框架可移动；以及气体供应喷嘴，其耦合到所述框架，并且被构造和布置为从所述气体供应喷嘴供应气体，所述气体供应喷嘴被布置为从所述反射图案化装置的图案化区域的一侧供应气体。