使用图案形成装置形貌引入的相位的方法和设备
一种方法包括:对于由光刻图案形成装置的图案的辐射进行的照射,获得由所述图案的三维形貌导致的计算的波前相位信息;以及基于该波前相位信息且使用计算机处理器来调整照射的参数和/或调整该图案的参数。
发明专利
CN201580069138.X
2015-11-25
CN107111244A
2017-08-29
G03F7/20(2006.01)I
ASML荷兰有限公司
J·M·芬德尔斯
荷兰维德霍温
中科专利商标代理有限责任公司 11021
王静
荷兰;NL
一种方法,所述方法包括:对于由光刻图案形成装置的图案的辐射进行的照射,获得由所述图案的三维形貌导致的计算的波前相位信息;以及基于所述波前相位信息且使用计算机处理器来调整照射的参数和/或调整所述图案的参数。