使用图案形成装置形貌引入的相位的方法和设备

摘要：

一种方法包括：获得由光刻图案形成装置的图案的三维形貌导致的波前相位信息；以及基于该波前相位信息且使用计算机处理器来调整该图案的物理参数。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201580069136.0

申请日期：2015-11-26

公开/公告号：CN107111243A

公开/公告日：2017-08-29

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:J·M·芬德尔斯

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人:王静

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

一种方法，所述方法包括：获得由光刻图案形成装置的图案的三维形貌导致的波前相位信息；以及基于所述波前相位信息且使用计算机处理器来调整所述图案的物理参数。