使用图案形成装置形貌引入的相位的方法和设备

摘要：

一种方法包括：测量光刻图案形成装置的三维形貌的属性，所述图案形成装置包括图案且被构造和布置成在光刻投影系统中的投影辐射束的横截面中产生图案；计算由所测量的属性导致的波前相位效应；将所计算的波前相位效应合并到光刻投影系统的光刻模型中；和基于包括所计算的波前相位效应的光刻模型来确定用在使用光刻投影系统的成像操作中的参数。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201580068502.0

申请日期：2015-11-26

公开/公告号：CN107003625A

公开/公告日：2017-08-01

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:J·M·芬德尔斯

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人:王静

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

一种方法，所述方法包括：测量光刻图案形成装置的三维形貌的属性，所述图案形成装置包括图案且被构造和布置成在光刻投影系统中的投影辐射束的横截面中产生图案；计算由所述测量的属性导致的波前相位效应；将所述计算的波前相位效应合并到光刻投影系统的光刻模型中；和基于包括所述计算的波前相位效应的光刻模型来确定用在使用光刻投影系统的成像操作中的参数。