使用图案形成装置形貌引入的相位的方法和设备

摘要：

一种方法包括：测量光刻图案形成装置的图案的特征的三维形貌；和根据测量结果计算由图案的三维形貌所导致的波前相位信息。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201580068449.4

申请日期：2015-11-25

公开/公告号：CN107111239A

公开/公告日：2017-08-29

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:J·M·芬德尔斯

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人:王静

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

一种方法，所述方法包括：测量光刻图案形成装置的图案的特征的三维形貌；和根据测量结果计算由图案的三维形貌所导致的波前相位信息。