掩模组件

摘要：

一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201580062446.X

申请日期：2015-11-16

公开/公告号：CN107172884A

公开/公告日：2017-09-15

主分类号：G03F1/62(2012.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司%ASML控股股份有限公司

发明/设计人:M·克鲁兹恩卡;马尔滕·M·M·詹森;约根·M·阿泽雷L;埃里克·W·博加特;德克·S·G·布龙;马克·布鲁因;理查德·J·布鲁尔斯;J·德克尔斯;保罗·詹森;穆罕默德·R·卡迈利;R·H·G·克莱默;R·G·M·兰斯博根;M·H·A·里恩德尔斯;马太·利普森;E·R·鲁普斯特拉;约瑟夫·H·莱昂斯;S·鲁;G·范德博世;S·范德黑坎特;S·范德格拉夫;F·范德穆伦;J·F·S·V·范罗;B·L·M-J·K·韦伯罗根

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人:张启程

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和(a)表膜框架，被配置用以支撑表膜且利用安装件安装在所述图案形成装置上；(b)其中所述安装件被配置用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架使得所述表膜框架与所述图案形成装置之间存在间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供可释放式可接合附接。