具有加热单元的立体光刻装置

摘要：

本发明涉及一种立体光刻装置，其具有用于容纳自由流动的可光聚合材料的槽(2)，所述槽具有至少位于用于曝光的曝光区域中的透明槽底部(3)；曝光单元(8)，所述曝光单元(8)布置在槽下方，用于曝光具有用于在各种情况下在曝光区域内待形成的层的预定轮廓的表面；在槽底部上方悬置在提升单元(6)上的构建平台(4)，在构建平台(4)上通过曝光固化的第一层将悬置于其上形成；控制单元，所述控制单元被配置成通过所述曝光单元引起各具有预定轮廓的连续曝光，并且在每种情况下在另外的层曝光之后连续调整构建平台在槽底部上方的位置；并且具有用于加热所述槽中的可光聚合材料的加热单元，其特征在于，所述加热单元具有透明导电层(33)，其覆盖所述槽底部上方的至少曝光区域的整个区域，并且其在所述曝光区域的外部在所述层的相对侧上设置有在相对侧上延伸的电触点(20)，所述电触点连接到受控电源，以能够通过流过该层的电流加热在所述曝光区域中的所述槽底部上的整个区域的可光聚合材料。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201580050253.2

申请日期：2015-10-15

公开/公告号：CN107077075A

公开/公告日：2017-08-18

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:义获嘉伟瓦登特公司%维也纳科技大学

发明/设计人:J·艾伯特;R·格迈纳

主申请人地址:列支敦士登沙恩

专利代理机构:北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280

代理人:郭广迅

国别省市代码:列支敦士登;LI

权利要求：

一种立体光刻装置，其具有用于容纳自由流动的可光聚合材料的槽(2)，所述槽具有至少位于用于曝光的曝光区域中的透明槽底部(3)；曝光单元(8)，所述曝光单元(8)布置在槽下方，用于曝光具有用于在各种情况下在曝光区域内待形成的层的预定轮廓的表面；在槽底部上方悬置在提升单元(6)上的构建平台(4)，在构建平台(4)上通过曝光固化的第一层将悬置于其上形成；控制单元，所述控制单元被配置成通过所述曝光单元引起各具有预定轮廓的连续曝光，并且在每种情况下在另外的层曝光之后连续调整构建平台在槽底部上方的位置；并且具有用于加热所述槽中的可光聚合材料的加热单元，其特征在于，所述加热单元具有透明导电层(33)，其覆盖所述槽底部上方的至少曝光区域的整个区域，并且其在所述曝光区域的外部在所述层的相对侧上设置有在相对侧上延伸的电触点(20)，所述电触点连接到受控电源，以能够通过流过该层的电流加热在所述曝光区域中的所述槽底部上的整个区域的可光聚合材料。