具有含脂肪族多环结构的有机基团的含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物
本发明的课题是提供，在将上层抗蚀剂曝光并利用碱性显影液、有机溶剂进行显影时可以形成优异的抗蚀剂图案形状的抗蚀剂下层膜及其形成用组合物。本发明的解决方法是一种含有脂肪族多环结构的光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含作为硅烷的水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物、或它们的组合，脂肪族多环结构是式(1)(式(1)中，R<sup>1</sup>是含有脂肪族多环结构且通过Si‑C键与Si原子结合的有机基团。R<sup>3</sup>表示乙氧基。a表示1，b表示0～2的整数，a+b表示1～3的整数。)所示的水解性硅烷具有的结构、或者以可具有双键、羟基、或环氧基的脂肪族多环化合物、脂肪族多环式二羧酸、或脂肪族多环式二羧酸酐的形式添加的化合物中包含的结构。R<sup>1</sup><sub>a</sub>R<sup>2</sup><sub>b</sub>Si(R<sup>3</sup>)<sub>4‑(a+b)</sub>式(1)。
发明专利
CN201580038119.0
2015-07-10
CN106662821A
2017-05-10
G03F7/11(2006.01)I
日产化学工业株式会社
柴山亘;志垣修平;中岛诚;武田谕;若山浩之;坂本力丸
日本东京都
北京市中咨律师事务所 11247
孙丽梅%段承恩
日本;JP
一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有脂肪族多环结构，所述组合物包含作为硅烷的水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物、或它们的组合，脂肪族多环结构是式(1)所示的水解性硅烷具有的结构、或者以可具有双键、羟基、或环氧基的脂肪族多环化合物、脂肪族多环式二羧酸、或脂肪族多环式二羧酸酐的形式添加的化合物中包含的结构，r<sup>1</sup><sub>a</sub>R<sup>2</sup><sub>b</sub>Si(R<sup>3</sup>)<sub>4‑(a+b)</sub> 式(1)式(1)中，R<sup>1</sup>是含有脂肪族多环结构且通过Si‑C键与Si原子结合的有机基团；R<sup>2</sup>是烷基、芳基、卤代烷基、卤代芳基、烷氧基芳基、烯基、或具有环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、氨基、或氰基的有机基团，且R<sup>2</sup>通过Si‑C键与硅原子结合；R<sup>3</sup>表示乙氧基；a表示1，b表示0～2的整数，a+b表示1～3的整数。