包括用于影像尺寸控制的投影系统的光刻装置

摘要：

本公开涉及光刻装置(100)及用于控制经投影的基板图案(W)的相对影像尺寸(S1/S0)的方法。投影系统(10)被配置用于将掩膜图案(M)的影像作为基板图案(W)投影到基板(6)上，其中该投影系统(10)包括调整透镜(13)，该调整透镜(13)可在包含中心位置(X0)的范围(Xmin、Xmax)中移动以便控制相对影像尺寸(S1/S0)。该投影系统(10)被配置来将掩膜图案(M)投影至调整透镜(13)上，以使得当调整透镜(13)位于中心位置(X0)时，从调整透镜(13)的视角来看的视掩膜图案(M’)出现之处离调整透镜(13)的距离(2*F)是调整透镜(13)的焦距(F)的两倍。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201580019559.1

申请日期：2015-04-22

公开/公告号：CN106462077A

公开/公告日：2017-02-22

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:利特克有限公司

发明/设计人:唐纳德·查尔斯·迪尔沃思

主申请人地址:荷兰纽南

专利代理机构:北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204

代理人:王达佐%王艳春

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

一种光刻装置(100)，其包括：掩膜台(3)，被配置用于放置掩膜(4)，所述掩膜(4)包括掩膜图案(M)，以便根据所述掩膜图案(M)来图案化照射光束(R1)；基板台(5)，被配置用于放置基板(6)，以便将基板图案(W)接收至所述基板(6)上；以及投影系统(10)，被配置用于将所述掩膜图案(M)的影像作为所述基板图案(W)投影至所述基板(6)上，其中所述投影系统(10)包括：调整透镜(13)，能够在包含中心位置(X0)的范围(Xmin、Xmax)中移动，以便通过所述调整透镜(13)的相对位置(X)来控制经投影的基板图案(W)的相对影像尺寸(S1/S0)；以及控制器(20)，被配置为通过控制所述调整透镜(13)的所述相对位置(X??X0)来调整所述经投影的基板图案(W)的所述相对影像尺寸(S1/S0)；其中所述投影系统(10)被配置为将所述掩膜图案(M)投影至所述调整透镜(13)上，以使得当所述调整透镜(13)位于所述中心位置(X0)时，从所述调整透镜(13)的视角来看的视掩膜图案(M’)出现之处离所述调整透镜(13)的距离(2*F)是所述调整透镜(13)的焦距(F)的两倍。