一种真空烧结炉

摘要：

本实用新型涉及一种真空烧结炉，包括真空室，所述真空室外部设置一个抽真空的外腔，所述真空室外表面设置保温层，所述外腔外表面水冷层，所述外腔顶端设置上盖，真空室下方通过法兰连接下腔，所述真空室和外腔内分别设置压力探测装置，压力探测装置连接控制系统，控制系统连接抽真空装置。采用这样的结构后，本实用新型的真空烧结炉可以用一套真空机组实现双腔高低真空的要求，提高真空腔的使用寿命。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201520185094.4

申请日期：2015-03-30

公开/公告号：CN204555645U

公开/公告日：2015-08-12

主分类号：F27B5/06(2006.01)I

申请/专利权人:青岛华旗科技有限公司

发明/设计人:刘洋;姜洪斌;李强

主申请人地址:266000 山东省青岛市城阳区流亭街道双元路西

国别省市代码:山东;37

权利要求：

一种真空烧结炉，包括真空室，其特征在于：所述真空室外部设置一个抽真空的外腔，所述真空室外表面设置保温层，所述外腔外表面水冷层，所述外腔顶端设置上盖，真空室下方通过法兰连接下腔，所述真空室和外腔内分别设置压力探测装置，压力探测装置连接控制系统，控制系统连接抽真空装置。