一种掩膜台光栅尺测量系统和测量方法

摘要：

本发明提供一种掩膜台光栅尺测量系统和测量方法，这种结构包括一掩膜台的承版台、一固定于承版台侧面的光栅尺、光栅尺的刻线面垂直于承版台上固定光栅尺的侧面、承版台固定光栅尺的侧面上还固定有一反射面。本发明在入射光束入射光栅尺刻线面后发生衍射后，在被衍射光束发射到的掩膜台的侧面上设置反射面，使得原本被掩膜台遮挡的衍射光束被反射面反射出，这样所有的衍射光束皆可被机器接收，避免了掩膜台对光栅尺测量的影响，同时也不必增加光栅尺的质量和尺寸，节省了测量系统的空间，提高测量系统机械模态稳定性能。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201511031850.9

申请日期：2015-12-31

公开/公告号：CN106933053A

公开/公告日：2017-07-07

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:吴萍;张志平

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种掩膜台光栅尺测量系统，其特征在于，包括激光器，提供光束；光栅尺，固定于所述掩膜台的承版台侧面，垂直于所述承版台；反射面，固定在所述承版台固定所述光栅尺的侧面上，反射所述光栅尺衍射光束中的第一光束；第一反射元件，将所述第一光束回射至所述反射面；第二反射元件，将所述光栅尺衍射光束中的第二光束回射至所述光栅尺；探测器，探测从所述反射面再回射至所述光栅后衍射的第一测量光束和所述第二光束回射至所述光栅后衍射的第二测量光束之间的干涉信号。