一种测校装置及测校方法

摘要：

本发明公开了一种测校装置及测校方法，该测校装置包括：照明组件，包括光源、照明镜头和空间光调制器，所述照明组件用于形成不同模式的照明光束；投影照明系统，用于将所述照明光束投射到工件的对准标记上；调焦调平功能系统，用于测量工件的离焦倾斜量并反馈至曝光系统的工件台；对准功能系统，用于对测量工件的水平位置偏移量并反馈至曝光系统的工件台；所述调焦调平功能系统与所述对准功能系统共用部分光路。本发明可以节省光刻机的调焦调平流程的时间，提高对准精度，并且对准过程和调焦调平过程之间的相互校准，可以提高整个的调焦调平和对准的测量精度，最终提高光刻机的曝光精度，提高曝光工艺的产率。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201510856637.5

申请日期：2015-11-30

公开/公告号：CN106814547A

公开/公告日：2017-06-09

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:陈飞彪;秦璋;蓝科;唐平玉

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种测校装置，其特征在于，包括：照明组件，包括光源、照明镜头和空间光调制器，所述照明组件用于形成不同模式的照明光束；投影照明系统，用于将所述照明光束投射到工件的对准标记上；调焦调平功能系统，用于测量工件的离焦倾斜量并反馈至曝光系统的工件台；对准功能系统，用于对测量工件的水平位置偏移量并反馈至曝光系统的工件台；所述调焦调平功能系统与所述对准功能系统共用部分光路。