掩模整形装置

摘要：

本发明涉及一种掩模整形装置，包括整形框架、整形玻璃、真空吸附气路及恒压控制气路，整形框架设在掩模边缘上方，并通过若干弹性部件连接掩模台；整形框架中部为中空结构，该中空结构与掩模相对应；整形玻璃固定罩设于整形框架的中空结构上；真空吸附气路与整形框架和掩模台的连接处连通，通过抽气和进气，控制整形框架与掩模接触和分离；整形框架与掩模接触使得中空结构被密封，恒压控制气路与中空结构连通，通过抽气和进气控制密封的中空结构内的气压恒定，补偿掩模由自重产生的变形。本发明掩模整形装置的固定和中空结构的密闭均通过真空吸附方式，没有增加额外的机械结构，降低了整机集成复杂度，避免了结构之间相互摩擦带来的颗粒污染问题。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201510647164.8

申请日期：2015-10-08

公开/公告号：CN106569394A

公开/公告日：2017-04-19

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司%上海微高精密机械工程有限公司

发明/设计人:李玲雨;许琦欣

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种掩模整形装置，安装在掩模台上方，用于补偿掩模由自重产生的变形，其特征在于，所述装置包括整形框架、整形玻璃、真空吸附气路及恒压控制气路，其中，所述整形框架设在所述掩模边缘上方，并通过若干弹性部件连接所述掩模台；所述整形框架中部为中空结构，该中空结构与所述掩模相对应；所述整形玻璃固定罩设于所述整形框架的中空结构上，用于透光；所述真空吸附气路与所述整形框架和所述掩模台的连接处连通，通过抽气和进气，控制所述整形框架与所述掩模接触和分离；所述整形框架与所述掩模接触使得所述中空结构被密封，所述恒压控制气路与所述中空结构连通，通过抽气和进气控制密封的所述中空结构内的气压恒定，补偿所述掩模由自重产生的变形。