一种投影曝光装置及方法

摘要：

本发明提供一种投影曝光装置，依次包括：照明光源、掩膜版、掩膜台、基板、工件台、控制系统，在每个曝光区域内皆并排设有对准焦面测量系统和投影物镜组且位于掩膜台和基板之间，对准焦面测量系统用于在所述扫描曝光过程前或扫描曝光过程中，对所述掩膜版和所述基板进行对准测量的同时，进行所述基板的焦面测量。本发明还提供一种投影曝光方法，将每一个对准标记计算出原先坐标和补偿量并相加得到补偿坐标，计算掩膜版与基板的相对位置并且移动工件台补偿，同时完成位置与焦面对准，具有结构简单、占用空间小、精准度高的优点。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201510646618.X

申请日期：2015-10-08

公开/公告号：CN106569390A

公开/公告日：2017-04-19

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司%上海微高精密机械工程有限公司

发明/设计人:陈跃飞;于大维;潘炼东;周畅

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种投影曝光装置，依次包括：一照明光源；一照明光学系统；掩膜台，用于承载掩膜版；投影物镜组；工件台，用于承载一基板，在扫描曝光过程中，所述照明光源发射的光束，经过所述照明光学系统，照射到所述掩膜版上，并将设置在所述掩膜版的图案，经过所述投影物镜，转印到所述基板上；以及与掩膜台电路连接的控制系统，其特征在于，所述投影曝光装置还包括对准焦面测量系统，设置在所述掩膜台和所述工件台之间，用于在所述扫描曝光过程前或扫描曝光过程中，对所述掩膜版和所述基板进行对准测量的同时，进行所述基板的焦面测量。