一种曝光装置

摘要：

本发明公开一种曝光装置，在光路上，沿着光束传播方向，依次包括物面、焦面调整装置、平面反射镜组、第一戴森型光学系统、两个道威棱镜组成的棱镜组、平面反射镜组、第二戴森型光学系统、倍率调整装置、像面；在上述光路中，还包括像场调节机构。与现有技术相比较，本发明通过利用道威棱镜来实现对像场的旋转；由两块单片反射镜取代直角反射镜，可以分别调节像面的倾斜和焦面；在光路中放置由多个电极驱动的电活性透镜或液体镜头，可以实现镜片更复杂的面型变化，实现像质的高阶波像差调整。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201510590553.1

申请日期：2015-09-17

公开/公告号：CN106547172A

公开/公告日：2017-03-29

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:孙晶露;何经雷

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种曝光装置，其特征在于，在光路上，沿着光束传播方向，依次包括物面、焦面调整装置、平面反射镜组、第一戴森型光学系统、两个道威棱镜组成的棱镜组、平面反射镜组、第二戴森型光学系统、倍率调整装置、像面；在上述光路中，还包括像场调节机构。