一种用于光刻装置的套刻补偿系统及方法

摘要：

本发明公开一种用于光刻装置的套刻补偿系统，包括：一照明模块，用于提供一辐射束；一掩模台，用于承载一图案；一工件台，用于承载一待曝光重组晶圆并提供至少一个自由度的运动；一投影物镜，用于将该图案成像至该待曝光重组晶圆；一套刻误差测量及补偿系统，用于测量该待曝光重组晶圆上的芯片位置与图案成像位置的相对位置误差，计算获得一校正模型用于补偿该相对位置误差。本发明同时公开一种用于光刻装置的套刻补偿方法。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201510590523.0

申请日期：2015-09-17

公开/公告号：CN106547171A

公开/公告日：2017-03-29

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:陈海华;吴凌风;任书铭;束奇伟;韩传有

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种用于光刻装置的套刻补偿系统，其特征在于，包括：一照明模块，用于提供一辐射束；一掩模台，用于承载一图案；一工件台，用于承载一待曝光重组晶圆并提供至少一个自由度的运动；一投影物镜，用于将所述图案成像至所述待曝光重组晶圆；一套刻误差测量及补偿系统，用于测量所述待曝光重组晶圆上的芯片位置与图案成像位置的相对位置误差，计算获得一校正模型用于补偿所述相对位置误差。