一种跨尺度结构协同工作的无掩模光刻系统

摘要：

本发明提供了一种跨尺度结构协同工作的无掩模光刻系统，包括：激光逐点扫描曝光单元，面投影曝光单元，移动台和计算控制单元，其中，计算控制单元将待曝光图形进行分解，以使得精度要求在预定阈值以下的图形由激光逐点扫描单元实现曝光，精度要求大于预定阈值的图形由面投影曝光单元实现曝光；在对该移动台上的样品进行激光逐点扫描曝光时，根据该精度要求在预定阈值以下的图形，该激光逐点扫描曝光单元出射的光相对该样品移动，从而实现对该样品的激光逐点扫描曝光；在对样品进行面投影曝光时，面投影曝光单元根据精度要求大于预定阈值的图形出射具有对应图形形状的光到样品上，以实现对样品的面投影曝光。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201510446458.4

申请日期：2015-07-27

公开/公告号：CN106707692A

公开/公告日：2017-05-24

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:中国科学院理化技术研究所

发明/设计人:段宣明;董贤子;郑美玲

主申请人地址:100190 北京市海淀区中关村东路29号

专利代理机构:北京正理专利代理有限公司 11257

代理人:张文祎

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种跨尺度结构协同工作的无掩模光刻系统，包括：激光逐点扫描曝光单元，面投影曝光单元，移动台(19)和计算控制单元(20)，其中，该计算控制单元将待曝光图形进行分解，以使得精度要求在预定阈值以下的图形由该激光逐点扫描单元实现曝光，精度要求大于预定阈值的图形由面投影曝光单元实现曝光；在对该移动台上的样品进行激光逐点扫描曝光时，根据该精度要求在预定阈值以下的图形，该激光逐点扫描曝光单元出射的光相对该样品移动，从而实现对该样品的激光逐点扫描曝光；在对该样品进行面投影曝光时，该面投影曝光单元根据该精度要求大于预定阈值的图形出射具有对应图形形状的光到该样品上，以实现对该样品的面投影曝光。