一种用于光刻机的零位传感器定位装置及方法

摘要：

本发明涉及一种用于光刻机的零位传感器定位装置及方法，该装置包括安装于光刻机框架测量位的第一定位板、安装于光刻机框架曝光位的第二定位板，所述第一定位板和第二定位板上分别设有水平向固定机构和Rz向调节机构，所述光刻机框架上与所述第一定位板和第二定位板对应处还分别设有光电探测器，第一硅片台和第二硅片台上分别设有与每个所述光电探测器分别对应的第一反射镜。本发明利用一个定位板同时定位3个光电探测器，而第一定位板和第二定位板结构大小完全相同或为同一块定位板，可以确保两个工位上的光电探测器对于两个硅片台都能够复用，操作方便，成本低。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201510416101.1

申请日期：2015-07-15

公开/公告号：CN107037691A

公开/公告日：2017-08-11

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:高玉英;陈慧

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种用于光刻机的零位传感器定位装置，其特征在于，包括安装于光刻机框架测量位的第一定位板、安装于光刻机框架曝光位的第二定位板，所述第一定位板和第二定位板上分别设有水平向固定机构和Rz向调节机构，所述光刻机框架上与所述第一定位板和第二定位板对应处还分别设有光电探测器，第一硅片台和第二硅片台上分别设有与每个所述光电探测器分别对应的第一反射镜。