一种用于光刻设备的控制架构

摘要：

本发明公开一种用于光刻设备的控制架构，包括：一总控制层，该总控制层通过一VME总线与一分系统控制层通讯，该分系统控制层通过一现场总线协议与一执行层通讯。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201510387060.8

申请日期：2015-07-06

公开/公告号：CN106324999A

公开/公告日：2017-01-11

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:李文彬

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种用于光刻设备的控制架构，其特征在于，包括：一总控制层，所述总控制层通过一VME总线与一分系统控制层通讯，所述分系统控制层通过一现场总线协议与一执行层通讯。