一种光刻机减振框架

摘要：

本发明公开了一种光刻机减振框架，包括：内部框架，外部框架，包括第一外部框架、第二外部框架和第三外部框架，地基，用于支撑内部框架和外部框架；地基包括相互分离的第一地基、第二地基和第三地基；第一外部框架、第二外部框架和第三外部框架分别由第一地基、第二地基和第三地基支撑；掩模台系统的Y向长行程电机定子设置在第二外部框架上；工件台系统的Y向长行程电机定子设置在第三外部框架上。本发明提供的光刻机减振框架将光刻机的不同部件的质量分布在光刻机减振框架的不同位置，优化减振框架的承载质量分布、减小作用在内部框架上的电机反作用力，使光刻机减振框架残余加速度小、位置稳定性高，稳定时间短，提升光刻机产率。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201510270152.8

申请日期：2015-05-24

公开/公告号：CN106292196A

公开/公告日：2017-01-04

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:葛黎黎;朱岳彬;高玉英

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种光刻机减振框架，其特征在于，包括：内部框架，用于支撑光刻机物镜系统、测量系统、部分掩模台系统及部分工件台系统；外部框架，包括第一外部框架、第二外部框架和第三外部框架，所述第三外部框架水平设置在下方，所述第一外部框架和所述第二外部框架方向垂直设置所述第三外部框架的两侧；地基，用于支撑所述内部框架和所述外部框架，所述内部框架通过减振器支撑在所述地基上；所述地基包括相互分离的第一地基、第二地基和第三地基；所述第一外部框架、第二外部框架和第三外部框架分别由所述第一地基、第二地基和第三地基支撑，所述第一地基还支撑所述内部框架；所述掩模台系统的Y向长行程电机定子设置在所述第二外部框架上；所述工件台系统的Y向长行程电机定子设置在所述第三外部框架上；所述第一外部框架上设置有光刻机的照明系统。