EUV用防尘薄膜组件、使用其的EUV用组合体以及组合方法

摘要：

本发明提供一种EUV用防尘薄膜组件，使用其的EUV用组合体以及其组合方法。本发明的EUV用防尘薄膜组件为由将防尘薄膜用网格结构体进行补强了的防尘薄膜结构体以及对该防尘薄膜结构体进行保持的防尘薄膜组件框架构成的EUV用防尘薄膜组件。网格结构体，由于EUV光在掩模面反射，2次通过EUV用防尘薄膜组件，所以在晶片上被投影为2种的影像。本发明的其特征在于，将间隔值进行设定，使所述影像的浓淡对比度比减小至25％以下，并且，这种间隔值，以设定为0.3mm～1.0mm的范围内为优选。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201510028801.3

申请日期：2015-01-20

公开/公告号：CN104793460A

公开/公告日：2015-07-22

主分类号：G03F1/24(2012.01)I

申请/专利权人:信越化学工业株式会社

发明/设计人:山田素行;秋山昌次

主申请人地址:日本东京都

专利代理机构:北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280

代理人:王勇%李科

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

一种EUV用防尘薄膜组件，由将防尘薄膜用网格结构体进行补强了的防尘薄膜结构体以及对该防尘薄膜结构体进行保持的防尘薄膜组件框架构成的EUV用防尘薄膜组件，网格结构体，由于EUV光在掩模面反射，2次通过EUV用防尘薄膜组件，所以在晶片上被投影为2种的影像，其特征在于，通过对防尘薄膜组件的间隔值进行设定，使所述影像的浓淡对比度比减小至25％以下。