EUV投射光刻的照明系统

摘要：

本发明涉及一种EUV投射光刻的照明系统，包含：光束成形光学单元(6)，用于从基于同步加速器辐射的光源(2)的EUV原始光束(4)产生EUV聚集输出光束(7)。解耦光学单元(8)用于从所述EUV聚集输出光束(7)产生多个EUV单独输出光束(9_i)。光束引导光学单元(10)用于在各个情况中引导各EUV单独输出光束(9_i)朝向物场(11)，光刻掩模(12)可布置在所述物场中。结果，照明系统高度无损失，并且同时灵活引导基于同步加速器辐射的光源的EUV光。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201480063956.4

申请日期：2014-11-21

公开/公告号：CN105765460A

公开/公告日：2016-07-13

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明/设计人:M.帕特拉;R.米勒

主申请人地址:德国上科亨

专利代理机构:北京市柳沈律师事务所 11105

代理人:邱军%张邦帅

国别省市代码:德国;DE

权利要求：

一种EUV投射光刻的照明系统的偏转光学单元(13；35；36；37，38；39；40)‑包含多个偏转反射镜(D1至D4；D1至D5，D1至D6；D1至D8)，EUV辐射(3)以掠入射在共同的偏转入射平面(xz)中照射在所述多个偏转反射镜上，‑其中设置了用于掠入射的至少四个偏转反射镜(D1至D4)，所述至少四个偏转反射镜在所述偏转入射平面(xz)中联合地具有多于70°的偏转效应，‑其中，所述偏转反射镜(D1至D8)的至少之一实施为凸柱形反射镜和/或所述偏转反射镜(D1至D8)的至少之一实施为凹柱形反射镜。