EUV成像设备

摘要：

提出一种EUV成像设备，其包含参考结构(250,400,500)、第一光学元件(215)以及第二光学元件(315)，其中，第一光学元件(215)借助于第一致动器(205)相对参考结构(250,400,500)是可致动的，第一致动器(205)为自保持致动器，第二光学元件(315)借助于第二致动器(300)相对参考结构(250,400,500)是可致动的，第二致动器(300)为非自保持致动器。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201480033769.1

申请日期：2014-06-05

公开/公告号：CN105324721A

公开/公告日：2016-02-10

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明/设计人:J.库格勒;S.亨巴彻;M.施密德

主申请人地址:德国上科亨

专利代理机构:北京市柳沈律师事务所 11105

代理人:邱军

国别省市代码:德国;DE

权利要求：

一种EUV成像设备(100)，包含：参考结构(250,400,500)；第一光学元件(215)，其借助于第一致动器(205)相对所述参考结构(250,400,500)是可致动的，该第一致动器(205)为自保持致动器；以及第二光学元件(315)，其借助于第二致动器(300)相对所述参考结构(250,400,500)是可致动的，该第二致动器(300)为非自保持致动器。