EUV光刻装置的照明系统及其分面反射镜

摘要：

本发明涉及EUV光刻装置(1)的照明系统(10)，包含：第一分面反射镜(13)，具有反射EUV辐射(4)的分面元件(13a-d)；以及第二分面反射镜(14)，具有反射由第一分面反射镜(13)反射的EUV辐射(4)至照明场(BF)的分面元件(14a-d)。第一分面反射镜(13)或所述第二分面反射镜(14)的分面元件(13a-d，14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件，用于衍射所述EUV辐射(4)。尤其，第二分面反射镜(14)的分面元件(14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件(14a，14c；14b，14d)，用于仅照明照明场的部分。本发明还涉及包含这种照明系统(10)的EUV光刻装置(1)，以及包含至少一个衍射分面元件(13a-d，14a-d)的分面反射镜(13，14)。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201480009868.6

申请日期：2014-02-11

公开/公告号：CN105074574A

公开/公告日：2015-11-18

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明/设计人:J.劳夫;I.萨恩格;J.齐默尔曼;D.克雷默;C.亨纳克斯;F.施莱塞纳

主申请人地址:德国上科亨

专利代理机构:北京市柳沈律师事务所 11105

代理人:邱军

国别省市代码:德国;DE

权利要求：

EUV光刻装置(1)的照明系统(10)，包含：第一分面反射镜(13)，具有反射EUV辐射(4)的分面元件(13a‑d)，第二分面反射镜(14)，具有将由所述第一分面反射镜(13)反射的EUV辐射(4)反射至照明场(BF)的分面元件(14a‑d)，其特征在于，所述第一分面反射镜(13)或所述第二分面反射镜(14)的分面元件(13a‑d，14a，c；14b，d)中的至少一个设计为衍射光学元件，用于使所述EUV辐射(4)衍射。