一种光流体微纳器件动态加工装置

摘要：

本实用新型公开了一种光流体微纳器件动态加工装置，包括光源，在所述光源出射光束行进方向上依次设置有光束整形器件、与空间光调制控制器连接的空间光调制器、聚焦物镜以及光流体模块，所述的光源出射光束依次经过光束整形器件、空间光调制器、聚焦物镜以及光流体模块。本实用新型的一种光流体微纳器件动态加工装置具有过程步骤少工艺简单，制作装置简单成本低，可以加工不同形状微纳器件，并能够进行不同微纳器件动态实时调整，便于微纳器件进行后续自组装处理等特点。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201420316152.8

申请日期：2014-06-09

公开/公告号：CN203941381U

公开/公告日：2014-11-12

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:高秀敏

发明/设计人:郁敏;南学芳;杨杰;高秀敏

主申请人地址:200433 上海市杨浦区国顺路80弄5号202室

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种光流体微纳器件动态加工装置，包括光源，在所述光源出射光束行进方向上依次设置有光束整形器件、聚焦物镜以及光流体模块，其特征在于，所述的光束整形器件和所述的聚焦物镜之间还设有用于调整所述光源出射光束光斑形状的空间光调制器，所述空间光调制器还连接有空间光调制控制器。